Конформность роста тонких слоев из газовой фазы на рельефных микро- и наноструктурах. Часть 3. Процессы атомно-слоевого осаждения

30.12.2020

Васильев В.Ю. Конформность роста тонких слоев из газовой фазы на рельефных микро- и наноструктурах. Часть  3. Процессы атомно-слоевого осаждения / Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника, 2020, вып. 3 (179), С. 26-37.

Выполнен обзор информационных источников по результатам многолетних исследований проблемы конформности роста тонких слоев неорганических материалов на рельефных полупроводниковых подложках при химическом осаждении из газовой фазы. В третьей части рассматривается возможность применения количественного подхода автора к оценке конформности роста тонких слоев на рельефах в процессах атомно-слоевого осаждения.

Скачать PDF

DOI: 10.7868/S2410993220030045