Chemical vapour-phase deposition of ruthenium-containing thin films
25.08.2014
Васильев В.Ю., Морозова Н.Б., Игуменов И.К. Осаждение рутенийсодержащих тонких пленок из газовой фазы / Успехи химии, 2014, Т.83, №8, с.758-782.
Рассмотрены химические и материаловедческие аспекты формированиятонких рутенийсодержащих пленок методами химического осаждения из газовой фазы, которые применяют в современных прецизионных технологиях. Проанализированы химические подходы к синтезу основных исходных соединений (предшественников), используемых в этих методах, процессы роста слоев, и данные об основных физико-химических и электрических свойствах тонких рутенийсодержащих пленок.