Шлемин Д.Л., Чернов А.С. Дифференциальный КМОП малошумящий усилитель для DRM совместимого радио тюнера / Радиопромышленность, 2012,  Вып.3, с.66-77. Рассмотрен дифференциальный КМОП малошумящий

Васильев В.Ю. Применение методов химического осаждения тонких слоёв из газовой фазы для микросхем с технологическими нормами 0,35-0,18 мкм. Часть 4. Обобщенная методология анализа закономерностей проц

Гридчин В.А., Чебанов М. А., Васильев В.Ю. Моделирование влияния конструктивно-технологических параметров на характеристики кремниевых резонансных сенсоров давления / Известия вузов. Электроника, 2012

Васильев В.Ю. Применение методов химического осаждения тонких слоёв из газовой фазы для микросхем с технологическими нормами 0,35-0,18 мкм. Часть 3. Закономерности роста слоев в промышленных реакторах

Хабаров П.С., Шлемин Д.Л., Лысь В.Д., Лебедев Ю.П., Васильев В.Ю., Попов Ю.Н. Проектирование сложно-функциональных блоков смешанного сигнала на основе субмикронной технологии на примере микросхемы вид

Хабаров П.С., Шлемин Д.Л., Лысь В.Д., Лебедев Ю.П., Васильев В.Ю., Попов Ю.Н. Проектирование сложно-функциональных блоков смешанного сигнала на основе субмикронной технологии на примере микросхемы вид

Хабаров П.С., Шлемин Д.Л., Лысь В.Д., Лебедев Ю.П., Васильев В.Ю., Попов Ю.Н., Чепин Ю.Н. Проектирование сложно-функционального блока видеодекодера для субмикронных интегральных микросхем типа система

Васильев В.Ю. Применение методов химического осаждения тонких слоёв из газовой фазы для микросхем с технологическими нормами 0,35-0,18 мкм. Часть 2. Аппаратура и методология осаждения слоёв / Электрон

Васильев В.Ю. Применение методов химического осаждения тонких слоёв из газовой фазы для микросхем с технологическими нормами 0,35-0,18 мкм. Часть 1. Основные тенденции развития методов / Электронная т