Васильев В.Ю. О методологии оценки конформности атомно-слоевого осаждения тонких пленок в высокоаспектных наноструктурах / Наноиндустрия, 2019, №3-4, c.194-204. Рассмотрены проблемы и

Васильев В.Ю. Технологии получения тонких пленок нитрида кремния для микроэлектроники и микросистемной техники. Часть 8. Влияние водорода в пленках на их свойства / Нано- и микросистемная техника, 201

Черепанов А.А., Новиков И.Л., Васильев В.Ю. Считывающая электроника для СКВИД-магнетометров постоянного тока. Часть 3. Полупроводниковая криогенная электроника / Нано- и микросистемная техника, 2019,

Черепанов А.А., Новиков И.Л., Васильев В.Ю. Считывающая электроника для СКВИД-магнетометров постоянного тока. Часть 2. Системы считывания и их ограничения / Нано- и микросистемная техника, 2019,

Васильев В.Ю. Технологии получения тонких пленок нитрида кремния для микроэлектроники и микросистемной техники. Часть 7. Обобщение информации по методам осаждения и особенностям пленок / Нан

Антонов А.А., Сурин И.К., Шлёмин Д.Л., Гордиенко С.М., Сафонов В.Д. Особенности разработки высокочастотных ИМС на примере МШУ для приемника ГЛОНАСС/GPS. Часть 2. Интерфейс "кристалл ИМС - печатная пла

Черепанов А.А., Новиков И.Л., Васильев В.Ю. Считывающая электроника для СКВИД-магнетометров постоянного тока. Часть 1. Магнитометры постоянного тока и их ограничения / Нано- и микросистемная техн

Васильев В.Ю. Технологии получения тонких пленок нитрида кремния для микроэлектроники и микросистемной техники. Часть 6. Каталитическое осаждение в проточных реакторах / Нано- и микросистемная техника

Васильев В.Ю. Технологии получения тонких пленок нитрида кремния для микроэлектроники и микросистемной техники. Часть 5. Плазмоактивированные процессы в реакторах циклического действия / Нано- и микро

Васильев В.Ю. Технологии получения тонких пленок нитрида кремния для микроэлектроники и микросистемной техники. Часть 4. Процессы в проточных реакторах с активацией плазмой высокой плотности / Нано- и